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Title:
3次元パターン形成材料
Document Type and Number:
Japanese Patent JPWO2009069557
Kind Code:
A1
Abstract:
【課題】光インプリント法によって3次元パターンを形成する工程において、残膜形成の抑制と、基板への高い密着性を付与されてなる光硬化性組成物を提供する。【解決手段】光インプリント法によって3次元パターンを形成するための光硬化性組成物であって、該組成物が光重合性基を有するモノマー、分散剤が付加された無機微粒子、光重合開始剤を含むことを特徴とする光硬化性組成物。前記無機微粒子の平均粒子径が、1乃至1000nmである。前記無機微粒子が、シリカである。前記分散剤が、シランカップリング剤である。前記分散剤が、炭素と炭素の不飽和結合を有する有機基又はエポキシ基を有する有機基を含むシランカップリング剤である。【選択図】図1

Inventors:
Makoto Hanabata
Application Number:
JP2009543778A
Publication Date:
April 14, 2011
Filing Date:
November 21, 2008
Export Citation:
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Assignee:
Nissan Chemical Industry Co., Ltd.
International Classes:
H01L21/027; B29C59/02; C08F2/44; C08F2/50; C08F292/00
Attorney, Agent or Firm:
Calyx
Miyazaki Yoshio
Tsutomu Kato
Kyoko Oyama