Title:
ジチアン誘導体、重合体、レジスト組成物、並びに、前記レジスト組成物を用いた半導体の製造方法
Document Type and Number:
Japanese Patent JPWO2009144801
Kind Code:
A1
Abstract:
レジストに必要な透明性や酸反応性を損なうことなく、レジスト基材樹脂の高屈折率化に有用なジチアン誘導体、前記ジチアン誘導体を構成成分とする重合体、及び前記重合体を含むレジスト組成物、並びに、前記レジスト組成物を用いた半導体装置の製造方法の提供。本発明のジチアン誘導体は、下記一般式（１）で表される構造を有することを特徴とする。前記一般式（１）において、Ｒ１は、ＨまたはＣＨ３基である。本発明の重合体は、本発明のジチアン誘導体を構成成分として含むことを特徴とする。
Inventors:
Koji Nozaki
Application Number:
JP2010514295A
Publication Date:
September 29, 2011
Filing Date:
May 29, 2008
Export Citation:
Assignee:
富士通株式会社
International Classes:
C07D339/08; C08F20/38; H01L21/027
Attorney, Agent or Firm:
Koichi Hirota