Title:
ＥＵＶＬ用光学部材の平滑化方法、および光学面が平滑化されたＥＵＶＬ用光学部材
Document Type and Number:
Japanese Patent JPWO2010029836
Kind Code:
A1
Abstract:
本発明はＥＵＶＬ用光学部材の凹欠点を有する光学面を平滑化する方法を提供する。具体的には、本発明は、ＴｉＯ2を含有し、ＳｉＯ2を主成分とする石英ガラス材料製のＥＵＶリソグラフィ（ＥＵＶＬ）用光学部材の凹欠点を有する光学面に対して、水蒸気分圧３．６ｍｍＨｇ以下の雰囲気中で、ＥＵＶＬ用光学部材の吸収係数が０．０１μｍ−１以上である波長で発振するレーザをフルエンス０．３〜１．５Ｊ／ｃｍ2で照射することにより、ＥＵＶＬ用光学部材の光学面を平滑化する方法を提供する。
Inventors:
Motoji Ono
Watanabe Mitsuru
Yokoyama Mika
Watanabe Mitsuru
Yokoyama Mika
Application Number:
JP2010528696A
Publication Date:
February 02, 2012
Filing Date:
August 19, 2009
Export Citation:
Assignee:
Asahi Glass Co., Ltd.
International Classes:
H01L21/027; C03C23/00; G03F1/00; G03F1/22; G03F1/24; G03F1/60
Attorney, Agent or Firm:
Nozomi Watanabe
Haruko Sanwa
Takemoto Yoichi
Haruko Sanwa
Takemoto Yoichi
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