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Title:
微細構造ゲルの製造方法
Document Type and Number:
Japanese Patent JPWO2012098942
Kind Code:
A1
Abstract:
【課題】本発明は、大掛かりな設備を必要とすることなく、非常に簡便な方法で短時間に大量に製造できる微細な高分子ゲルの製造方法を提供することを目的とする。【解決手段】本発明は、表面に微細な溝から構成されるパターンを有する基体の該表面の一部に重合性モノマー成分を含む重合性モノマー水溶液を滴下させる工程と、前記パターンを構成する溝内に沿って重合性モノマー水溶液を毛細管現象により移動させる工程と、前記溝内の重合性モノマー水溶液を重合する工程と、を含む、パターンに従った形状の微細構造ゲルの製造方法である。

Inventors:
柴田 秀彬
竹内 昌治
許 允禎
Application Number:
JP2012553654A
Publication Date:
June 09, 2014
Filing Date:
January 06, 2012
Export Citation:
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Assignee:
テルモ株式会社
国立大学法人 東京大学
International Classes:
C08F2/10; B81C99/00; C08F20/52; C08F26/00
Domestic Patent References:
JP2002224999A2002-08-13
JPH08160239A1996-06-21
Foreign References:
WO2009041646A12009-04-02
Attorney, Agent or Firm:
八田国際特許業務法人