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Title:
反射結像光学系、露光装置、およびデバイス製造方法
Document Type and Number:
Japanese Patent JPWO2013118615
Kind Code:
A1
Abstract:
例えばEUV光を用いる露光装置に適用されたときに、装置のフットプリントを小さく抑えることのできる反射結像光学系。照明光学系からの光で照明された第1面に配置されるパターンの像を第2面に結像する反射結像光学系は、第1面で反射された光を、第1番目に反射する第1反射鏡と、第2番目に反射する第2反射鏡とを含む複数の反射鏡を備えている。照明光学系からの光が第1面に照射する領域を被照射領域とし、第1面上において被照射領域が位置する部分を、複数の反射鏡の光軸よりも所定の方向側であるとするとき、第1反射鏡の反射領域および第2反射鏡の反射領域は、複数の反射鏡の光軸よりも所定の方向側に位置し、照明光学系からの光の光路を挟むように、第1反射鏡および第2反射鏡が配置される。

Inventors:
Yoshio Kawabe
Application Number:
JP2013557471A
Publication Date:
May 11, 2015
Filing Date:
January 30, 2013
Export Citation:
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Assignee:
NIKON CORPORATION
International Classes:
H01L21/027; G02B17/00; G02B19/00; G03F7/20
Domestic Patent References:
JP2011150227A2011-08-04
JP2011086708A2011-04-28
Foreign References:
WO2009125530A12009-10-15
WO2006033336A12006-03-30
Attorney, Agent or Firm:
Takao Yamaguchi