酸拡散制御剤、感放射線性樹脂組成物、レジストパターン形成方法、化合物及び化合物の製造方法

Japanese Patent JPWO2013172239

A1

本発明は、下記式（１）で表される化合物及び下記式（２）で表される化合物からなる群より選ばれる少なくとも１種の化合物からなる酸拡散制御剤である。下記式（１）中、Ｒ２及びＲ３は、それぞれ独立して、水素原子又は炭素数１〜１０の１価の炭化水素基であり、Ｒ２及びＲ３のうちの少なくとも一方が、炭素数１〜１０の１価の炭化水素基である。Ｒ６及びＲ７は、それぞれ独立して、水素原子若しくは炭素数１〜１０の１価の炭化水素基であるか、又はＲ６及びＲ７が互いに結合してそれらが結合する窒素原子と共に環員数３〜１０の環構造を形成している。下記式（２）中、Ｒ１０は、水素原子又は炭素数１〜１０の１価の炭化水素基である。

WO/2020/121893	METHOD FOR MANUFACTURING STRUCTURE BODY, METHOD FOR MANUFACTURING COLOR FILTER, METHOD FOR MANUFACTURING SOLID-STATE IMAGING ELEMENT, AND METHOD FOR MANUFACTURING IMAGE DISPLAY DEVICE
WO/2021/215374	PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR PRODUCING PATTERNED CURED FILM, CURED FILM, INTERLAYER INSULATING FILM, COVER COAT LAYER, SURFACE PROTECTION FILM, AND ELECTRONIC COMPONENT
JP3334877	INDUSTRIAL APPLICABILITY: Improved removal transfer image formation / recording

Ikui Junto
Norihiko Ikeda

JP2014515583A

January 12, 2016

May 08, 2013

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JSR CORPORATION

G03F7/004; C07C227/08; C07C229/12; C07D211/14; C07D215/06; C07D295/14; C07D307/93; C07D307/94; C07D317/30; C07D327/04; C07D493/10; C07H9/04; G03F7/038; G03F7/039

JP2008107513A	2008-05-08
JP2010250076A	2010-11-04
JP2002226470A	2002-08-14
JP2002363148A	2002-12-18
JP2002333714A	2002-11-22
JP2012137729A	2012-07-19
JP2007041146A	2007-02-15
JP2006251672A	2006-09-21
JP2003043678A	2003-02-13

M.PROST, M.URBAIN AND R. CHARLIER: "Propargyl derivatives. VII (1) Propynlycarbinol basic esters, ethers and carbamates", CHIMICA THERAPEUTICA, vol. 2, JPN6017024668, 1967, FR, pages 133 - 143, ISSN: 0003591137

Hajime Amano

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