Title:
感光性転写材料、感光性低屈折率転写層を有する基板、感光性低屈折率転写層の製造方法、永久膜の形成方法、光学デバイスの製造方法
Document Type and Number:
Japanese Patent JPWO2014077228
Kind Code:
A1
Abstract:
低屈折率であり、光伝達効率が高く、転写後の面内膜厚均一性に優れた層を得ることができる感光性転写材料を提供することを目的とする。本発明の感光性転写材料は、支持体上に少なくとも感光性低屈折率材料層を有し、上記感光性低屈折率材料層が、（成分Ａ）中空又は多孔質粒子と、（成分Ｂ）光重合開始剤と、（成分Ｃ）重合性官能基を有するポリマーと、（成分Ｄ）モノマーと、を含有することを特徴とする。また、本発明の基板は、上記感光性転写材料から上記感光性低屈折材料層を転写した感光性低屈折率転写層を有する。
Inventors:
Hideyuki Nakamura
Susumu Fujimoto
Shinichi Kanna
Susumu Fujimoto
Shinichi Kanna
Application Number:
JP2014546978A
Publication Date:
January 05, 2017
Filing Date:
November 12, 2013
Export Citation:
Assignee:
FUJIFILM Corporation
International Classes:
G03F7/004; B32B7/02; B32B27/18; B32B27/30; F21S2/00; G02B1/111; G02B5/20; G03F7/027; G03F7/038
Attorney, Agent or Firm:
Patent Service Corporation Taiyo International Patent Office
Yasuhiro Noguchi
Yasuhiro Noguchi