Title:
プラズマ処理装置
Document Type and Number:
Japanese Patent JPWO2014188576
Kind Code:
A1
Abstract:
処理対象の基板が装着されるアノード電極と、互いに対向する２つの主面にそれぞれ開口部が設けられて２つの主面間を貫通し、且つ、開口部の口径が中間部分での直径よりも大きいように開口部分にテーパがつけられた貫通孔を有し、２つの主面の少なくとも一方がアノード電極に装着された基板と対向するように配置されたカソード電極と、アノード電極とカソード電極間にプロセスガスを導入するガス供給装置と、アノード電極とカソード電極間に交流電力を供給して、カソード電極の２つの主面上それぞれにおいてプロセスガスを交流プラズマ状態にする交流電源とを備える。
Inventors:
Atsushi Ohgishi
Tetsuya Saruwatari
Masayasu Suzuki
Ken Mishina
Tetsuya Saruwatari
Masayasu Suzuki
Ken Mishina
Application Number:
JP2015518013A
Publication Date:
February 23, 2017
Filing Date:
May 24, 2013
Export Citation:
Assignee:
SHIMADZU CORPORATION
International Classes:
H05H1/46; C23C16/509; H01L21/205; H01L21/3065; H01L21/31
Attorney, Agent or Firm:
Hidekazu Miyoshi