Title:
マスクブランク、転写用マスクおよび転写用マスクの製造方法
Document Type and Number:
Japanese Patent JPWO2015037392
Kind Code:
A1
Abstract:
遮光膜を除去するドライエッチングで生じる光半透過膜へのダメージを抑制したマスクブランクを提供する。透光性基板１の主表面上に光半透過膜２と遮光膜４が積層した構造を有するマスクブランク１００であって、光半透過膜２はフッ素系ガスを含有するエッチングガスでのドライエッチングが可能な材料で形成され、遮光膜４は、下層４１と上層４２の積層構造を含み、下層４１はタンタルを含有し、ハフニウム、ジルコニウムおよび酸素を実質的に含有しない材料で形成され、上層４２は、ハフニウムおよびジルコニウムから選ばれる１以上の元素とタンタルを含有し、上層４２の表層を除いた部分は酸素を実質的に含有しない材料で形成され、光半透過膜２と下層４１の間に塩素系ガスを含有しかつ酸素ガスを含有しないエッチングガスでのドライエッチングに対して下層４１との間でエッチング選択性を有する材料からなるエッチングストッパー膜３が設けられている。
Inventors:
Hiroshi Shishido
Ryo Okubo
Jun Nozawa
Ryo Okubo
Jun Nozawa
Application Number:
JP2015536501A
Publication Date:
March 02, 2017
Filing Date:
August 15, 2014
Export Citation:
Assignee:
HOYA CORPORATION
International Classes:
G03F1/58; G03F1/32; G03F1/80
Domestic Patent References:
| JP2012212013A | 2012-11-01 | |||
| JP2010072406A | 2010-04-02 | |||
| JP2009244793A | 2009-10-22 | |||
| JP2008249949A | 2008-10-16 | |||
| JP2007292824A | 2007-11-08 | |||
| JP2007241065A | 2007-09-20 | |||
| JP2001312043A | 2001-11-09 | |||
| JP2001083687A | 2001-03-30 |
Foreign References:
| WO2009157506A1 | 2009-12-30 | |||
| US20110250529A1 | 2011-10-13 | |||
| WO2011030521A1 | 2011-03-17 |
Attorney, Agent or Firm:
Yutaka Nagata
Takafumi Oshima
Tsukasa Ota
Takafumi Oshima
Tsukasa Ota