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Title:
ルテニウム化合物、薄膜形成用原料及び薄膜の製造方法
Document Type and Number:
Japanese Patent JPWO2015093177
Kind Code:
A1
Abstract:
本発明は、化学気相成長法、特にALD法に用いられるルテニウム化合物(プレカーサ)において、反応性ガスと良好な反応性を有し、蒸気圧が高く、かつ融点が低い化合物を提供するものであり、具体的には、下記一般式(I)で表されるルテニウム化合物、好ましくは一般式(I)中のR1及びR2がエチル基又はイソプロピル基であるルテニウム化合物を提供するものである。(式中、R1、R2及びR3は各々独立に炭素数1〜5の直鎖又は分岐状のアルキル基を表し、R1及びR2の炭素数の和は3〜10である。)

Inventors:
畑▲瀬▼ 雅子
遠津 正揮
桜井 淳
吉野 智晴
Application Number:
JP2015553423A
Publication Date:
March 16, 2017
Filing Date:
November 07, 2014
Export Citation:
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Assignee:
株式会社ADEKA
International Classes:
C07C225/14; C23C16/18; H01L21/285
Domestic Patent References:
JP2003306472A2003-10-28
JP2012006858A2012-01-12
JP2013253035A2013-12-19
JP2000212744A2000-08-02
Foreign References:
WO2010071364A22010-06-24
US5008415A1991-04-16
Other References:
ZHARKOVA, G. I. ET AL.: "O,N-coordinated Ni(II) beta-diketonate derivatives: Synthesis, thermal properties, MOCVD application", SURFACE & COATINGS TECHNOLOGY, vol. Vol.230, JPN6015003429, 15 September 2013 (2013-09-15), pages 290 - 296
CHOU, T.-Y. ET AL.: "Synthesis and characterization of tris(β-ketoiminato)ruthenium(III) complexes: Potential precursors", CHEMICAL VAPOR DEPOSITION, vol. 10, no. 3, JPN6015003430, 2004, pages 149 - 158
REES, W. S., JR. ET AL.: "Synthesis and magnetic and structural characterization of the first homoleptic lanthanide β-ketoimi", INORGANIC CHEMISTRY, vol. Vol.39, JPN6015003431, 2000, pages 3736 - 3737
Attorney, Agent or Firm:
特許業務法人翔和国際特許事務所