Login| Sign Up| Help| Contact|

Patent Searching and Data


Title:
疎水化表面基板の製造方法
Document Type and Number:
Japanese Patent JPWO2015146127
Kind Code:
A1
Abstract:
本発明は、プラスチック製、金属製、またはガラス製基板上に、密着性の優れた金属酸化物薄膜が形成し、さらに最終的に、表面を疎水化する方法を提供することを目的とする。プラスチック製、金属製、またはガラス製基板を、式(I)M(OR1)4(I)(式(I)中、R1は、炭素数4以上の炭化水素基を表し、Mは、チタン原子またはジルコニウム原子を表す。)で表される金属アルコキシドで処理し、さらに、式(II)R2−Si−X3(II)(式中、R2は、無置換または置換基を有する炭素数15以上の炭化水素基を表し、Xは、水酸基又は加水分解性基を表し、Xは同一であっても、相異なっていてもよい。)で表される有機シラン化合物で処理することにより、その基板表面を簡便に疎水化することができる。

Inventors:
肥高 友也
島田 幹也
Application Number:
JP2016510024A
Publication Date:
April 13, 2017
Filing Date:
March 23, 2015
Export Citation:
Click for automatic bibliography generation   Help
Assignee:
日本曹達株式会社
International Classes:
C08G79/14; C01G23/04
Domestic Patent References:
JP2004089902A2004-03-25
Foreign References:
WO2009013904A12009-01-29
Attorney, Agent or Firm:
廣田 雅紀
小澤 誠次
東海 裕作
松田 一弘
堀内 真
山内 正子
園元 修一
山村 昭裕
森川 聡
富田 博行