Title:
薄膜キャパシタ
Document Type and Number:
Japanese Patent JPWO2016158228
Kind Code:
A1
Abstract:
【課題】製造効率の高い薄膜キャパシタを提供する。【解決手段】支持基板１１０と、支持基板１１０上に形成され第１薄膜電極層１２１及び第２薄膜電極層１２２と薄膜誘電体１３０を交互に積層してなる容量形成部１４０と、第１薄膜電極層１２１と電気的に接続した第１外部電極１６１と、第２薄膜電極層１２２と電気的に接続した第２外部電極１６２とを備えた薄膜キャパシタ１００において、第１薄膜電極層１２１・第２薄膜電極層１２２と第１外部電極１６１・第２外部電極１６２との接続領域において支持基板１１０と平行な面に第１薄膜電極層１２１・第２薄膜電極層１２２が露出するよう断面階段状に形成されている。【選択図】図１
Inventors:
Kurosawa Masaru
Yuichi Sasashima
Takashi Shimada
Yuichi Sasashima
Takashi Shimada
Application Number:
JP2017509451A
Publication Date:
October 12, 2017
Filing Date:
March 08, 2016
Export Citation:
Assignee:
TAIYO YUDEN CO.,LTD.
International Classes:
H01G4/33; H01G4/12; H01G4/232; H01G4/30
Domestic Patent References:
| JP2013229583A | 2013-11-07 | |||
| JP2008243931A | 2008-10-09 | |||
| JP2007173386A | 2007-07-05 | |||
| JPS466227A |
Attorney, Agent or Firm:
Atenda International Patent Office
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