Title:
プラズマ照射装置及びプラズマ照射方法
Document Type and Number:
Japanese Patent JPWO2016163007
Kind Code:
A1
Abstract:
シリカ前駆体を、被処理体に熱影響を与えず、短時間で、且つ高品質なシリカ膜に転化可能なプラズマ照射装置及びプラズマ照射方法を提供する。本発明のプラズマ照射装置１は、プラズマ発生部１２と、前記プラズマ発生部１２により発生されたプラズマを、被処理体に照射する照射部８０と、を備え、前記照射部８０は、前記被処理体に液体を塗布可能な塗布部８５を有すること、を特徴とする。
Inventors:
Toyohiko Shindo
Genno Yumino
Yamaguchi Masu Tsukasa
Genno Yumino
Yamaguchi Masu Tsukasa
Application Number:
JP2017511422A
Publication Date:
March 08, 2018
Filing Date:
April 09, 2015
Export Citation:
Assignee:
Oral Co., Ltd. 28
International Classes:
B01J19/08; A61C5/00; A61C5/77; H05H1/24
Domestic Patent References:
| JP2010523814A | 2010-07-15 | |||
| JP2010137372A | 2010-06-24 | |||
| JP2014240462A | 2014-12-25 |
Foreign References:
| WO2004064129A1 | 2004-07-29 | |||
| US20150050614A1 | 2015-02-19 | |||
| US20070160958A1 | 2007-07-12 |
Attorney, Agent or Firm:
Masayuki Masabayashi
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