Title:
薄膜製造装置、薄膜製造方法
Document Type and Number:
Japanese Patent JPWO2017191796
Kind Code:
A1
Abstract:
膜厚センサを長期間使用できる技術を提供する。成膜源１２から成膜材料３７の微粒子を放出させ成膜対象物１５と膜厚センサ３１とに薄膜を成長させ、膜厚センサ３１によって薄膜の測定成長速度を求め、測定成長速度と、予め設定された基準速度とを比較して、電力を変化させて測定成長速度を基準速度に近づける際に、膜厚センサ３１と放出部３８との間のシャッタ３５を開閉させて、膜厚センサ３１に微粒子が到達する時間を短くする。膜厚センサ３１に成長する薄膜の膜厚はシャッタ３５を開閉させない場合よりも薄くなるので、膜厚センサ３１の寿命が長くなる。
Inventors:
Kimura hole
Application Number:
JP2018515709A
Publication Date:
October 25, 2018
Filing Date:
April 26, 2017
Export Citation:
Assignee:
ULVAC, Inc.
International Classes:
C23C14/24
Domestic Patent References:
| JPS5910339A | 1984-01-19 | |||
| JPH07283281A | 1995-10-27 | |||
| JP2007231303A | 2007-09-13 | |||
| JP2007039762A | 2007-02-15 |
Attorney, Agent or Firm:
Shigeo Ishijima
Hideki Abe
Hideki Abe