Title:
反応処理装置および反応処理装置の制御方法
Document Type and Number:
Japanese Patent JPWO2017199933
Kind Code:
A1
Abstract:
反応処理装置３０は、流路１２が形成された反応処理容器１０と、送液システム３７と、流路１２に高温領域と低温領域を提供する温度制御システム３２と、流路１２の蛍光検出領域を通過する試料２０を検出する蛍光検出器５０と、検出された信号に基づいて送液システム３７を制御するＣＰＵ３６とを備える。試料２０が低温領域から高温領域に移動するとき、ＣＰＵ３６は、蛍光検出器５０により試料２０の蛍光検出領域の通過が検出された時刻から、所定の第１待機時間が経過したとき、送液システム３７に試料２０の停止を指示する。試料２０が高温領域から低温領域に移動するとき、ＣＰＵ３６は、蛍光検出器５０により試料２０の蛍光検出領域の通過が検出された時刻から、第１待機時間とは独立して設定された所定の第２待機時間が経過したとき、送液システム３７に試料２０の停止を指示する。
Inventors:
Takashi Fukuzawa
Application Number:
JP2018518297A
Publication Date:
March 14, 2019
Filing Date:
May 16, 2017
Export Citation:
Assignee:
NIPPON SHEET GLASS COMPANY,LIMITED
International Classes:
C12M1/00; C12M1/34
Domestic Patent References:
| JP2009517075A | 2009-04-30 |
Foreign References:
| WO2016006612A1 | 2016-01-14 |
Attorney, Agent or Firm:
Sakaki Morishita