Title:
膜の製造方法
Document Type and Number:
Japanese Patent JPWO2018061691
Kind Code:
A1
Abstract:
薄膜かつ膜厚等の均一性が高い良質な膜の製造方法を提供する。膜を形成する材料および溶媒を含む原料溶液を基板上に供給し、溶媒を乾燥させることにより膜を基板上に形成する膜の製造方法である。原料溶液を基板上に保持する塗布ブレードが用いられ、塗布ブレードは、基板の表面に対向する対向面と、対向面の周囲に設けられた、原料溶液と接する、少なくとも１つの側面を有する。原料溶液の溶媒を特定の方向に沿って乾燥させて膜を形成する。
Inventors:
Seigo Nakamura
Hiroyuki Yaegashi
Hiroyuki Yaegashi
Application Number:
JP2018542321A
Publication Date:
July 04, 2019
Filing Date:
September 07, 2017
Export Citation:
Assignee:
FUJIFILM Corporation
International Classes:
B05D1/28; B05D3/00; B05D7/24; H01L21/336; H01L29/786; H01L51/05; H01L51/40
Domestic Patent References:
| JP2008073633A | 2008-04-03 | |||
| JP2014210217A | 2014-11-13 | |||
| JP2014175555A | 2014-09-22 | |||
| JP2008078456A | 2008-04-03 | |||
| JP2013077799A | 2013-04-25 | |||
| JP2015209729A | 2015-11-24 |
Foreign References:
| WO2011040155A1 | 2011-04-07 | |||
| WO2015133312A1 | 2015-09-11 |
Attorney, Agent or Firm:
Hideaki Ito
Fumio Mitsuhashi
Fumio Mitsuhashi