感光性エレメント、レジストパターンの形成方法、及び、プリント配線板の製造方法

Japanese Patent JPWO2018100730

A1

支持フィルム１０と、支持フィルム１０上に配置された感光層２０と、を備える感光性エレメント１であって、感光層２０が、バインダーポリマーと、エチレン性不飽和結合を有する光重合性化合物と、光重合開始剤と、を含有し、支持フィルム１０の感光層２０側の主面１２における直径２μｍ以上の欠陥の数が２ｍｍ２あたり３０個以下である、感光性エレメント１。

JP2002530885	INDUSTRIAL APPLICABILITY: Silane-based oxide antireflection film for patterning metal shapes in semiconductor manufacturing.
JPH0750827	[Title of Invention] Circuit transfer sheet
JP2003007579	ORGANIC THIN FILM FORMATION METHOD

Rice cake
Ryo Matsumura

JP2018553617A

October 17, 2019

December 02, 2016

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Hitachi Chemical Co., Ltd.

G03F7/09; B32B27/00; B32B27/36; G03F7/004; H05K3/06; H05K3/18

JP2015166866A	2015-09-24
JP2007264483A	2007-10-11
JP2009186780A	2009-08-20

WO2008093643A1

2008-08-07

Yoshiki Hasegawa
Yoshinori Shimizu
Hiroyuki Hirano
Tomoya Furoshita

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