Title:
荷電粒子線装置
Document Type and Number:
Japanese Patent JPWO2018138874
Kind Code:
A1
Abstract:
本発明は、ＳＡＤＰやＳＡＱＰのような複数露光法等で生成された繰り返しパターンの識別を高精度に行う荷電粒子線装置の提供を目的とする。この目的を達成するために、試料上の第１の位置に荷電粒子ビームを照射することによって、試料に照射痕を形成させ、照射痕の形成後、前記第１の位置を含むと共に、前記照射痕より大きな第１の視野に前記荷電粒子ビームを走査することによって第１の画像を取得し、前記第１の位置を含み、前記照射痕より大きな視野であり、且つ前記第１の視野とは異なる位置の第２の視野に前記荷電粒子ビームを走査することによって第２の画像を取得し、前記第１の画像と第２の画像に含まれる照射痕を重ねるように、前記第１の画像と第２の画像を合成する荷電粒子線装置を提案する。
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Inventors:
Chikako Abe
Hitoshi Sugawara
Hitoshi Sugawara
Application Number:
JP2018564046A
Publication Date:
November 14, 2019
Filing Date:
January 27, 2017
Export Citation:
Assignee:
Hitachi High-Technologies Corporation
International Classes:
H01J37/22; H01J37/147; H01J37/28
Domestic Patent References:
| JP2010067516A | 2010-03-25 |
Attorney, Agent or Firm:
Shigemi Iwasaki