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Title:
錯体及びその製造方法
Document Type and Number:
Japanese Patent JPWO2018139607
Kind Code:
A1
Abstract:
【課題】スズイオン(Sn2+)又はビスマスイオン(Bi3+)を高純度に含み、鉛フリーペロブスカイト化合物を製造するのに適した錯体を提供する。【解決手段】一般式(1A):SnXn・(m)L[式中、Xは少なくとも1種のハロゲン原子を示す。Lは極性溶媒分子を示す。nは1.5〜2.5を示す。mは0.3〜1.9を示す。]で表される錯体。【選択図】なし

Inventors:
若宮 淳志
尾崎 雅司
村田 靖次郎
Application Number:
JP2018564665A
Publication Date:
November 14, 2019
Filing Date:
January 26, 2018
Export Citation:
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Assignee:
国立大学法人京都大学
International Classes:
C07C233/03; C07C317/04; H01L51/44
Attorney, Agent or Firm:
廣瀬 隆行
関 大祐