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Title:
光学活性な2,3−ビスホスフィノピラジン誘導体の製造方法及び光学活性なホスフィン遷移金属錯体の製造方法
Document Type and Number:
Japanese Patent JPWO2019012918
Kind Code:
A1
Abstract:
本発明の光学活性な2,3−ビスホスフィノピラジン誘導体の製造方法は、下記一般式(1)で表される2,3−ジハロゲノピラジン、及びカルボン酸アミド配位性溶媒を含むA液を得るとともに、下記一般式(2)で表される水素−ホスフィンボラン化合物のR体又はS体の光学活性体をリチオ化して、リチオ化したホスフィンボラン化合物を得、前記A液に、前記リチオ化したホスフィンボラン化合物を含むB液を添加し芳香族求核置換反応を行い、次いで脱ボラン化反応を行う工程により、下記一般式(3)で表される光学活性な2,3−ビスホスフィノピラジン誘導体を製造する。(式の注釈は明細書を参照)

Inventors:
間山 大輔
竹下 智史
田村 健
Application Number:
JP2019529009A
Publication Date:
January 23, 2020
Filing Date:
June 15, 2018
Export Citation:
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Assignee:
日本化学工業株式会社
International Classes:
C07F9/6509; C07F1/12
Attorney, Agent or Firm:
特許業務法人翔和国際特許事務所