Title:
塩素含有粉体の水洗処理方法及び塩素含有粉体の水洗処理システム
Document Type and Number:
Japanese Patent JPWO2020053944
Kind Code:
A1
Abstract:
効率的な処理を可能にする、塩素含有粉体の水洗処理方法、及び塩素含有粉体の水洗処理システムを提供する。この塩素含有粉体の水洗処理システム１は、塩素含有粉体に少なくとも水を加えてなるスラリーＳ１を収容するための、所定収容量を有する処理槽２と、前記処理槽２に付設され、前記処理槽２に収容された前記スラリーＳ１に二酸化炭素を含むガスＡ１を吹き込んで、該収容されたスラリーの下層及び上層にわたって前記ガスＡ１が前記スラリーＳ１を巻き込みながら還流する、前記ガスと前記スラリーとの混合撹拌流を形成させるための筒型散気装置３と、前記処理槽２から取り出した該スラリーＳ２から液相の一部又は全部を濾別して脱塩ケーキＣ１を得るための濾別分離装置６と、を備える。
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Inventors:
Taira Hizen
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Application Number:
JP2020546566A
Publication Date:
June 03, 2021
Filing Date:
September 10, 2018
Export Citation:
Assignee:
Taiheiyo Cement Co., Ltd.
International Classes:
B09B3/00
Domestic Patent References:
| JP2013176740A | 2013-09-09 | |||
| JP2001129426A | 2001-05-15 | |||
| JP2005289402A | 2005-10-20 | |||
| JP2006175410A | 2006-07-06 | |||
| JP2005213527A | 2005-08-11 | |||
| JP2011522686A | 2011-08-04 |
Attorney, Agent or Firm:
Creation International Patent Office