Title:
１，６‐ヘキサンジオール由来のアジピン酸製造方法
Document Type and Number:
Japanese Patent JP2015525229
Kind Code:
A
Abstract:
プラチナ又は金の少なくとも一つを含有する特定の不均一系触媒存在下で、１，６‐ヘキサンジオールを酸素と反応させる化学的触媒反応を採用する、１，６‐ヘキサンジオールからアジピン酸への変化を開示する。好ましくは、チタニウム、安定化チタニウム、ジルコニア、安定化ジルコニア、シリカ、又は、それらの混合物からなる群より選ばれる支持体上に、好ましくはジルコニアがタングステンで安定化されたものを支持体上に金属を供する。酸化との反応は、約１００℃〜約３００℃の温度、かつ、約５０ｐｓｉｇ〜約２０００ｐｓｉｇの酸素分圧で行う。
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Inventors:
Diaz, Eric, Elle.
Murphy, Vincent, Jay.
Shoemaker, James, A. W.
Murphy, Vincent, Jay.
Shoemaker, James, A. W.
Application Number:
JP2015517344A
Publication Date:
September 03, 2015
Filing Date:
June 11, 2013
Export Citation:
Assignee:
Rennovia,INC.
International Classes:
C07C51/235; B01J23/42; B01J23/52; B01J35/10; C07C55/14
Domestic Patent References:
| JP2005330225A | 2005-12-02 | |||
| JP2007520364A | 2007-07-26 |
Foreign References:
| DE2407146A1 | 1975-09-04 | |||
| WO2011155964A1 | 2011-12-15 | |||
| US4400468A | 1983-08-23 |
Attorney, Agent or Firm:
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