Title:
１９３ｎｍレーザー及び検査システム
Document Type and Number:
Japanese Patent JP2016508627
Kind Code:
A
Abstract:
２００ｎｍ未満の光を発生させる改良された固体レーザーが記載される。このレーザーは、約１０３０ｎｍ〜１０６５ｎｍの基本波長を用いて、２００ｎｍ未満の光を発生させる。レーザーの最終周波数変換ステージは、約１１０９ｎｍの波長にある光を約２３４ｎｍの波長にある光と混ぜ合わせて、２００ｎｍ未満の光を発生させる。非線形媒質の適切な選択により、当該混合は、ほぼ非臨界な位相整合によってなされ得る。この混合は、高変換効率、良安定性及び高信頼性をもたらす。
Inventors:
Chuwan Yuin-Ho Alex
Armstrong Jay Joseph
Duong Yujuin
Riou Justin Dienhwan
Drivinski Vladimir
Fielden John
Armstrong Jay Joseph
Duong Yujuin
Riou Justin Dienhwan
Drivinski Vladimir
Fielden John
Application Number:
JP2015558125A
Publication Date:
March 22, 2016
Filing Date:
February 13, 2014
Export Citation:
Assignee:
KLA-Tenker Corporation
International Classes:
G02F1/37; G01N21/956; G02F1/35; H01S3/00; H01S3/067; H01S3/10
Domestic Patent References:
| JP2011215472A | 2011-10-27 | |||
| JP2008545165A | 2008-12-11 | |||
| JP2010008574A | 2010-01-14 | |||
| JP2008268945A | 2008-11-06 | |||
| JPS63185084A | 1988-07-30 | |||
| JP2009535666A | 2009-10-01 | |||
| JP2009523228A | 2009-06-18 | |||
| JP2011517487A | 2011-06-09 | |||
| JP2001516874A | 2001-10-02 |
Foreign References:
| WO1999014631A1 | 1999-03-25 | |||
| WO2013015940A2 | 2013-01-31 | |||
| US20030011872A1 | 2003-01-16 |
Attorney, Agent or Firm:
Patent Corporation yki International Patent Office