Title:
感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、レジスト膜、パターン形成方法、及び電子デバイスの製造方法
Document Type and Number:
Japanese Patent JPWO2020049865
Kind Code:
A1
Abstract:
樹脂（Ａ）と、ガラス転移温度が１００℃以下の化合物（Ｂ）と、溶剤とを含有し、上記樹脂（Ａ）は、ホモポリマーとしたときのガラス転移温度が５０℃以下であるモノマーを由来とする繰り返し単位（ａ１）と、酸分解性基を有する繰り返し単位（ａ２）とを含み、上記繰り返し単位（ａ１）は、非酸分解性の繰り返し単位であり、上記樹脂（Ａ）は、芳香族環を有する繰り返し単位を有し、上記化合物（Ｂ）の含有量は全固形分に対して１質量％以上であり、固形分濃度が１０質量％以上である、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、上記組成物から形成されたレジスト膜、上記組成物を用いるパターン形成方法、及び電子デバイスの製造方法。
Inventors:
Hideaki Tsubaki
Kei Tomiga
Kohei Higashi
Yasuhisa Yoneda
Naoya Hatakeyama
Kei Tomiga
Kohei Higashi
Yasuhisa Yoneda
Naoya Hatakeyama
Application Number:
JP2020541041A
Publication Date:
August 12, 2021
Filing Date:
July 10, 2019
Export Citation:
Assignee:
FUJIFILM Corporation
International Classes:
G03F7/039; G03F7/004; G03F7/20
Domestic Patent References:
| JP2006330366A | 2006-12-07 | |||
| JP2006145853A | 2006-06-08 | |||
| JP2006154434A | 2006-06-15 | |||
| JP2013083937A | 2013-05-09 | |||
| JP2004264623A | 2004-09-24 |
Foreign References:
| WO2017182441A1 | 2017-10-26 |
Attorney, Agent or Firm:
Patent Business Corporation Koei Patent Office