Title:
アルコキシジシロキサン、及びそれから製造される緻密なオルガノシリカ膜
Document Type and Number:
Japanese Patent JP2023546911
Kind Code:
A
Abstract:
【課題】改善された機械的特性を有する緻密な有機ケイ素膜の製造方法の提供。【解決手段】以下のステップ：基材を反応チャンバ内に提供すること；反応チャンバに、アルコキシジシロキサンを含むガス状の組成物を導入すること；及び反応チャンバ中のアルコキシジシロキサンを含むガス状の組成物にエネルギーを適用して、アルコキシジシロキサンを含むガス状の組成物の反応を引き起こし、基材に有機ケイ素膜を堆積させることを含む、緻密な有機ケイ素膜の製造方法であって、有機ケイ素膜が、約２．５０～約３．３０の誘電率、約６～約３５ＧＰａの弾性率、及びによって測定される約１０～約４０の原子％炭素を有する方法。【選択図】図１
Inventors:
Manchao Xiao
Daniel P. Spence
Cinchien Ray
William Robert Entry
Raymond Nicholas Burtis
Jennifer Lin Ann Actil
Robert Gordon Ridgeway
Daniel P. Spence
Cinchien Ray
William Robert Entry
Raymond Nicholas Burtis
Jennifer Lin Ann Actil
Robert Gordon Ridgeway
Application Number:
JP2023524143A
Publication Date:
November 08, 2023
Filing Date:
October 20, 2021
Export Citation:
Assignee:
Vertham Materials US, Limited Liability Company
International Classes:
H01L21/312; C07F7/18; C23C16/42
Attorney, Agent or Firm:
Atsushi Aoki
Shinji Mihashi
Kenji Kimura
Jun Iwata
Satomi Hiasa
Shinji Mihashi
Kenji Kimura
Jun Iwata
Satomi Hiasa