Title:
Alternative contact reduction catalyst system
Document Type and Number:
Japanese Patent JP2016517348
Kind Code:
A
Abstract:
ＳＣＲ触媒システムであって、該システム内に配置された第１のＳＣＲ触媒組成物及び第２のＳＣＲ触媒組成物であって、第２のＳＣＲ触媒組成物よりも高いＮ２形成及び低いＮ２Ｏ形成を促進する第１のＳＣＲ触媒組成物と、第１のＳＣＲ触媒組成物とは異なる組成を有する第２のＳＣＲ触媒組成物であって、第１のＳＣＲ触媒組成物よりも低いＮ２形成及び高いＮ２Ｏ形成を促進する第２のＳＣＲ触媒組成物とを含む、ＳＣＲ触媒システムを記載する。該ＳＣＲ触媒システムは、還元剤の存在下で窒素酸化物の還元を触媒する方法及びシステムに有用である。
Inventors:
Tan, Wayon
Mohanan, Jaya, El.
Mohanan, Jaya, El.
Application Number:
JP2016502085A
Publication Date:
June 16, 2016
Filing Date:
March 13, 2014
Export Citation:
Assignee:
BASF Corporation
International Classes:
B01D53/94; B01J29/72; F01N3/08; F01N3/10
Foreign References:
| GB2493449A | 2013-02-06 |
Attorney, Agent or Firm:
Satoshi Eto