試料を粒子線で分析および／または処理するための装置および方法

Japanese Patent JP2023541664

A

提案されるのは、試料（２００）を粒子線（１１２）で分析および／または処理するための装置（１００）であって、試料（２００）を保持するための試料ステージ（１２０）と、粒子線（１１２）を供給するための供給ユニット（１１０）であり、粒子線（１１２）を試料（２００）上の処理位置（２０２）まで誘導するための開口部（１１４）、および試料（２００）上に蓄積した電荷（Ｑ）によって生成される電界（Ｅ）をシールドするためのシールド要素（１１６）、を備え、シールド要素（１１６）は、開口部（１１４）を覆っており、シート状の様式で具現化されており、導電性材料を含み、シールド要素（１１６）は凸セクション（１１７）を備え、このセクションは試料ステージ（１２０）に対して凸であり、凸セクション（１１７）は粒子線（１１２）が試料（２００）へと通過するための貫通開口部（１１８）を有する、供給ユニット（１１０）と、を備える、装置（１００）、である。

JP4355446	Electron beam exposure equipment and electron beam forming member
JP5292545	Ion sources, systems and methods

Aus Nicol
budach michael
Hofmann Torsten
Oster Jens

JP2023517400A

October 03, 2023

September 15, 2021

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Carl Zeiss SGM Gaehha

H01J37/09; C23C16/04; H01J37/28; H01J37/305; H01J37/317

Shinichiro Tanaka
Hiroyuki Suda
Fumiaki Otsuka
Naoki Kondo
Takeo Nasu
Nobuhiko Suzuki
Nobuyuki Taniguchi

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