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Title:
ハイドロキシアパタイト含有薄膜の形成装置及び方法
Document Type and Number:
Japanese Patent JP7448276
Kind Code:
B1
Abstract:
ハイドロキシアパタイト含有薄膜の形成装置は、スパッタリングにより、抗菌性金属とハイドロキシアパタイトとを含む材料の薄膜をオブジェクトの表面に形成するスパッタリング装置と、薄膜が形成されたオブジェクトに対してアルカリ溶液を用いて水熱処理を実行する水熱合成装置とを含む。

Inventors:
Shinsei Tanaka
Masafumi Tanaka
Application Number:
JP2023567141A
Publication Date:
March 12, 2024
Filing Date:
June 13, 2022
Export Citation:
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Assignee:
Brainy Co., Ltd.
International Classes:
A61L27/12; B01J3/04; C01B25/32; C23C14/34; C23C14/58
Domestic Patent References:
JP2015136469A
JP200869048A
Other References:
K. OZEKI et al.,Fabrication of hydroxyapatite thin films on polyetheretherketone substrates using a sputtering techn,Materials Science & Engineering. C. Materials for Biological Applications,2017年,Vol.72,Page.576-582
Michal BARTMANSKI et al.,The Chemical and Biological Properties of Nanohydroxyapatite Coatings with Antibacterial Nanometals,,International Journal of Molecular Sciences,2021年,Vol.22 No.6,Page.3172
Attorney, Agent or Firm:
Suzue International Patent Office