Title:
焼成装置
Document Type and Number:
Japanese Patent JPWO2015029306
Kind Code:
A1
Abstract:
高温、高圧などの過酷条件を用いず、なおかつアンモニアなどの危険なガス原料を用いずに、窒化物あるいは酸窒化物材料の焼成を提供する。尿素あるいは、ＮＨ２基を持つ化合物を窒化原料として焼成を行なう。たとえば、尿素を用いる場合、尿素の熱分解反応によって、アンモニアおよび二酸化炭素が発生する。還元雰囲気において、二酸化炭素はそのまま排出されるが、アンモニアは還元作用によって酸素欠損した原料と化学反応を起こし、原料を窒化していく。この分解反応は低温にて容易に起こるため、高温、高圧にする必要がない。また、これら原料は液体あるいは固体であるため、アンモニアガスのように高コストな付帯設備を必要とすることがないため、焼成物のコストをさらに抑えることができ、安価にて提供することが可能となる。
Inventors:
Toshiyuki Takizawa
Application Number:
JP2015533949A
Publication Date:
March 02, 2017
Filing Date:
July 09, 2014
Export Citation:
Assignee:
Panasonic IP Management Co., Ltd.
International Classes:
C01B21/082; C01C1/02; C01F17/00; F27B5/04; F27B5/10; F27B7/06
Domestic Patent References:
| JP2013121887A | 2013-06-20 | |||
| JPS6168311A | 1986-04-08 |
Other References:
K.M.A. SARON ET AL.: "Study of using aqueous NH3 to synthesize GaN nanowires on Si(1 1 1) by thermal chemical vapor deposi", MATER. SCI. ENG. B, vol. 178, no. 5, JPN6014035661, 20 March 2013 (2013-03-20), pages 330 - 335
G. BRAUER ET AL.: "Synthese und Eigenschaften des roten Tantalnitrids Ta3N5", ANGEW. CHEM., vol. 77, no. 5, JPN6014035664, 1965, DE, pages 218 - 219, XP000870171, DOI: doi:10.1002/ange.19650770510
G. BRAUER ET AL.: "Synthese und Eigenschaften des roten Tantalnitrids Ta3N5", ANGEW. CHEM., vol. 77, no. 5, JPN6014035664, 1965, DE, pages 218 - 219, XP000870171, DOI: doi:10.1002/ange.19650770510
Attorney, Agent or Firm:
Kenji Kamada
Hiroo Maeda
Hiroo Maeda