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Title:
洗浄製品
Document Type and Number:
Japanese Patent JP2018522115
Kind Code:
A
Abstract:
洗浄製品はスプレーディスペンサと、噴射及び発泡に適した洗浄組成物とを有する。前記組成物は前記スプレーディスペンサ内に収容される。前記組成物はｉ）前記組成物の約５〜約１５重量％の界面活性剤系と、ｉｉ）式Ｉ：Ｒ１Ｏ（Ｒ２Ｏ）ｎＲ３及び式ＩＩ：Ｒ４Ｏ（Ｒ５Ｏ）ｎＲ６のグリコールエーテル、及びこれらの混合物からなる群から選択されるグリコールエーテル溶剤とを含む。式中、Ｒ１は直鎖若しくは分岐状Ｃ４、Ｃ５、若しくはＣ６アルキル又は置換若しくは非置換フェニルであり、Ｒ２はエチル又はイソプロピルであり、Ｒ３は水素又はメチルであり、ｎは１、２、又は３であり、Ｒ４はｎ−プロピル又はイソプロピルであり、Ｒ５はイソプロピルであり、Ｒ６は水素又はメチルであり、ｎは１、２、又は３である。前記界面活性剤系と前記グリコールエーテル溶剤の重量比は約５：１〜約１：１である。

Inventors:
Wesley Yvonne Peter Boaz
Peter van campanout
Dennis Alfred Gonzales
Acha dokidaku
Jean-Luc Philippe Bettiol
Application Number:
JP2018501924A
Publication Date:
August 09, 2018
Filing Date:
July 05, 2016
Export Citation:
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Assignee:
THE PROCTER & GAMBLE COMPANY
International Classes:
C11D3/43; C11D1/14; C11D1/29; C11D1/75; C11D3/20; C11D3/26; C11D3/33
Domestic Patent References:
JPH0226670B21990-06-12
JP2004502829A2004-01-29
JP2000510524A2000-08-15
JP2008024831A2008-02-07
JP2015105309A2015-06-08
JP2015105310A2015-06-08
JP2015105311A2015-06-08
JP2000503328A2000-03-21
JPH11209792A1999-08-03
JP2004075794A2004-03-11
JPH07292392A1995-11-07
JP2007284692A2007-11-01
JP2012126883A2012-07-05
Foreign References:
US5102573A1992-04-07
WO2014160590A12014-10-02
Attorney, Agent or Firm:
Patent Business Corporation Tani/Abe Patent Office



 
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