受容層形成用組成物、それを用いて得られる受容基材、印刷物、導電性パターン及び電気回路

Title:

受容層形成用組成物、それを用いて得られる受容基材、印刷物、導電性パターン及び電気回路

Document Type and Number:

Japanese Patent JP5622067

Kind Code:

B1

Abstract:

本発明は、ブロックイソシアネート（Ａ）を、受容層形成用組成物の固形分に対して５０質量％〜１００質量％含有することを特徴とする受容層形成用組成物、それを用いて得られる受容基材、印刷物及び導電性パターンを提供する。本発明の受容層形成用組成物は、インク等の流動体を担持することが可能で、各種支持体と導電層との優れた密着性を付与することのできる受容層が形成可能である。特に、前記ブロックイソシアネート（Ａ）の数平均分子量が１，０００〜５，０００のものを用いると各種支持体と導電層との間の密着性がより優れたものとなる。

Inventors:

冨士川亘
白髪潤
村川昭
斉藤公恵

Application Number:

JP2014530042A

Publication Date:

November 12, 2014

Filing Date:

January 16, 2014

Export Citation:

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