エッチング残留物を除去するための組成物、その使用の方法及びその使用

Japanese Patent JP2022541219

A

開示される対象及び特許請求の範囲に記載される対象は、２つ以上又は２つより多くのアルカノール基を有するアルカノールアミン、アルファヒドロキシ酸、及び水を含む、ポストエッチング残留物の洗浄組成物、並びにマイクロエレクトロニクス製造における、その洗浄組成物の使用のための方法に関する。

JP4842771	Processing system, processing method and recording medium
WO/2002/080233	PROCESS AND APPARATUS FOR REMOVING RESIDUES FROM THE MICROSTRUCTURE OF AN OBJECT

Lion Sun
Lee Lee One
I-Pin Woo
E-Cheerleader
Tien Nyo Chen

JP2022502569A

September 22, 2022

July 14, 2020

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Vertham Materials US, Limited Liability Company

H01L21/304; C11D7/26; C11D7/32; C23F11/12; C23F11/14

Aoki Atsushi
Shinji Mihashi
Kenji Kimura
Naonori Koda
Jun Iwata

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