Title:
化合物、樹脂、組成物、並びにレジストパターン形成方法及び回路パターン形成方法
Document Type and Number:
Japanese Patent JPWO2018052026
Kind Code:
A1
Abstract:
本発明は、下記式（０）で表される、化合物を提供する。【化１】（０）（式（０）中、ＲＹは、水素原子であり、ＲＺは、炭素数１〜６０のＮ価の基又は単結合であり、ＲＴは、各々独立して、置換基を有していてもよい炭素数１〜３０のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数６〜３０のアリール基、置換基を有していてもよい炭素数２〜３０のアルケニル基、置換基を有していてもよい炭素数１〜３０のアルコキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基、アミノ基、カルボン酸基、チオール基又は水酸基であり、前記アルキル基、前記アリール基、前記アルケニル基及び前記アルコキシ基は、エーテル結合、ケトン結合又はエステル結合を含んでいてもよく、ここで、ＲＴの少なくとも１つは水酸基であり、またＲＴの少なくとも１つは炭素数２〜３０のアルケニル基であり、Ｘは、酸素原子、硫黄原子、単結合又は無架橋であることを示し、ｍは、各々独立して０〜９の整数であり、ここで、ｍの少なくとも１つは２〜９の整数又はｍの少なくとも２つは１〜９の整数であり、Ｎは、１〜４の整数であり、ここで、Ｎが２以上の整数の場合、Ｎ個の［ ］内の構造式は同一であっても異なっていてもよく、ｒは、各々独立して０〜２の整数である。）
Inventors:
Echigo Masatoshi
Application Number:
JP2018539752A
Publication Date:
June 24, 2019
Filing Date:
September 13, 2017
Export Citation:
Assignee:
Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd.
International Classes:
C07C39/21; C07C39/15; C07C43/215; C07D311/78; C08G14/04; G03F7/027; G03F7/031; G03F7/11; G03F7/20
Domestic Patent References:
| JPS635053A | 1988-01-11 | |||
| JP2002249584A | 2002-09-06 | |||
| JP2014122281A | 2014-07-03 | |||
| JP2017122180A | 2017-07-13 | |||
| JP2017125008A | 2017-07-20 |
Foreign References:
| CN104449670A | 2015-03-25 | |||
| WO2013024779A1 | 2013-02-21 |
Other References:
JOURNAL OF MEDICINAL CHEMISTRY, vol. 28, no. 8, JPN6021033308, 1985, pages 1026 - 1031, ISSN: 0004729880
JOURNAL OF PLANAR CHROMATOGRAPHY -MODERN TLC, vol. 17, no. 5, JPN6021033310, 2004, pages 369 - 371, ISSN: 0004729881
JOURNAL OF PLANAR CHROMATOGRAPHY -MODERN TLC, vol. 17, no. 5, JPN6021033310, 2004, pages 369 - 371, ISSN: 0004729881
Attorney, Agent or Firm:
Yoshiyuki Inaba
Toshifumi Onuki
Kazuhiko Naito
Toshifumi Onuki
Kazuhiko Naito