溶媒含有物品の濃縮システムおよび濃縮液

Japanese Patent JPWO2019098390

A1

溶質および溶媒ｂを含有する溶媒含有物品から成る供給流ａを、浸透物質流ｄと正浸透膜ｏを介して向流または並流させ、前記供給流ａに含有される溶媒ｂを前記正浸透膜ｏを通過させて浸透物質流ｄに移動させ、濃縮された溶媒含有物品から成る濃縮物流ｃと、希釈された浸透物質流ｄから成る流れｅとを得る第一の工程を有する溶媒含有物品の濃縮システムであって、前記浸透物質流ｄが、多価のカチオンを含む無機塩溶液であり、そして前記第一の工程における浸透物質流ｄの温度が５〜６０℃である、溶媒含有物品の濃縮システム。

JP3734545	REFINING MEMBRANE FOR SEMICONDUCTOR WAFER TREATING LIQUID AND METHOD THEREFOR
WO/2023/136214	CONCENTRATION METHOD AND CONCENTRATION SYSTEM FOR RAW MATERIAL LIQUID
JPH10503847	[Title of Invention] Filtration membrane device

Mitsuru Fujita
Masaru Kiguchi
Masato Mikawa
Takashi Suzuki

JP2019554450A

September 17, 2020

November 20, 2018

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ASAHI KASEI KABUSHIKI KAISHA

B01D61/00; A01J11/06; A23F3/20; A23F5/10; A23L2/02; A23L5/00; A23L27/00; A23L27/10; B01D61/36; B01D61/58; B01D69/02; B01D69/08; B01D69/10; B01D69/12; B01D71/32; B01D71/34; B01D71/42; B01D71/56; B01D71/68

JP2013198893A	2013-10-03
JPS5712802A	1982-01-22
JP2016150308A	2016-08-22
JP2016026492A	2016-02-18
JP2005040030A	2005-02-17

CN103073146A	2013-05-01
TW201701770A	2017-01-16

Atsushi Aoki
Shinji Mitsuhashi
Kazuhiro Nakamura
Toko Saito
Shunsuke Mima
Hideo Katsumata

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