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Patent Searching and Data


Title:
Cover flux and a method for silicon refining
Document Type and Number:
Japanese Patent JP2016511734
Kind Code:
A
Abstract:
カバーフラックスの装置および方法が示される。方法および装置において、凝固フロントが鋳型の冷却面から冷却面と実質的に反対にある溶融シリコンの表面へ向かって移動するにつれて、不純物が固体シリコンから液体中へと押し出され、該シリコン上のフラックス層と反応することが示される。

Inventors:
Turenne Align
Nouri Abdullah
Alfred Cristine
Application Number:
JP2015554264A
Publication Date:
April 21, 2016
Filing Date:
January 29, 2014
Export Citation:
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Assignee:
Silicone Materials Incorporated
International Classes:
C01B33/037; B22D21/06; F27D1/00; F27D1/18; F27D11/02; F27D11/06
Domestic Patent References:
JPS5632319A1981-04-01
JP2012508154A2012-04-05
JP2015530086A2015-10-15
JPS5632319A1981-04-01
JP2012508154A2012-04-05
Foreign References:
CN102134075A2011-07-27
WO2004030044A22004-04-08
CN102134075A2011-07-27
WO2004030044A22004-04-08
Attorney, Agent or Firm:
Shimizu Hatsushi
Masao Haruna
Hirotaka Yamaguchi
Toshi Gobe
Ryuichi Inoue
Toshimitsu Sato
Koichi Niimi
Tomohiko Kobayashi
Masato Ozeki
Yoshihiro Igarashi
Kazuya Kawamoto