Title:
高密度ラインのパターニングのためのＥＵＶリソグラフィシステム
Document Type and Number:
Japanese Patent JP2019517033
Kind Code:
A
Abstract:
１次元ラインを対象ワークピースにプリントする極紫外線（ＥＵＶ）リソグラフィルーリングエンジンは、ＥＵＶ放射光の光源と、１Ｄパターンを定義するパターンソースと、パターンソースを照射する照明ユニット（ＩＵ）と、１Ｄパターンに対して光学的に共役な像面に、１Ｄパターンを縮小係数Ｎが１より大きい状態で光学的に結像する投影光学（ＰＯ）とを含む。パターンソースの照射は、軸上又は軸外で可能である。１Ｄパターンは第１の空間周波数を有する一方、１Ｄパターンの光学像は、少なくとも第１の空間周波数の２倍の第２の空間周波数を有する。パターンソースは、平坦又は湾曲である。ＩＵは、中継反射器を含み得る。ＰＯの反射器は、該反射器を集合的に形成する複数の空間的に異なる反射要素を含み得る。このエンジンは、パターンソースの１Ｄパターンのピッチに実質的に等しい空間分解能を有する２Ｄパターンの光学像の形成を許容しない。【選択図】 図１Ｂ
Inventors:
Flagero, Donice, Gee.
Williamson, David, M.
Renwick, Stefan, Pea.
Smith, daniel, jean
Binard, Michael, Bee.
Williamson, David, M.
Renwick, Stefan, Pea.
Smith, daniel, jean
Binard, Michael, Bee.
Application Number:
JP2018560913A
Publication Date:
June 20, 2019
Filing Date:
May 19, 2017
Export Citation:
Assignee:
NIKON CORPORATION
Flagero, Donice, Gee.
Williamson, David, M.
Renwick, Stefan, Pea.
Smith, daniel, jean
Binard, Michael, Bee.
Flagero, Donice, Gee.
Williamson, David, M.
Renwick, Stefan, Pea.
Smith, daniel, jean
Binard, Michael, Bee.
International Classes:
G03F7/20; G02B17/08; G02B19/00
Domestic Patent References:
| JP2000021763A | 2000-01-21 | |||
| JP2008288299A | 2008-11-27 |
Foreign References:
| WO2009083229A1 | 2009-07-09 | |||
| US20150219997A1 | 2015-08-06 | |||
| US20070263269A1 | 2007-11-15 | |||
| US20070279642A1 | 2007-12-06 | |||
| US20080259458A1 | 2008-10-23 |
Attorney, Agent or Firm:
Yoshiki Hasegawa
Yoshiki Kuroki
Yoshiki Kuroki