Title:
ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル及びブチルメトキシジベンゾイルメタンを含む効果的な日焼け止め組成物
Document Type and Number:
Japanese Patent JP2022526245
Kind Code:
A
Abstract:
本発明は、ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル、ブチルメトキシジベンゾイルメタン、ビス-エチルヘキシルオキシフェノールメトキシフェニルトリアジン、エチルヘキシルトリアゾン及び/又はジエチルヘキシル-ブタミドトリアゾンを含む日焼け止め又は日常ケア組成物であって、メチレンビス-ベンゾトリアゾリルテトラメチルブチルフェノール、トリス-ビフェニルトリアジン、二酸化チタン及び酸化亜鉛を含まず、ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシルとブチルメトキシジベンゾイルメタンを0.8以上の比で含む、日焼け止め又は日常ケア組成物に関する。さらに本発明は、敏感肌への適用のための前記組成物の使用に関する。さらに本発明は、皮膚への製品の塗布の後の砂付着を減じるための、前記組成物の使用に関する。【選択図】なし
Inventors:
Thorn, Miriam
Cruz, Stanislaw
Schneider, Marcel
Acker, stephanie
Cruz, Stanislaw
Schneider, Marcel
Acker, stephanie
Application Number:
JP2021555173A
Publication Date:
May 24, 2022
Filing Date:
March 13, 2020
Export Citation:
Assignee:
BASF SE
International Classes:
A61K8/35; A61K8/27; A61K8/29; A61K8/41; A61K8/49; A61Q17/04
Attorney, Agent or Firm:
Hiraki International Patent Office