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Title:
メサを伴う静電チャック
Document Type and Number:
Japanese Patent JP2024515649
Kind Code:
A
Abstract:
プラズマ処理チャンバのための静電チャック（ＥＳＣ）、およびＥＳＣを製造する方法が説明される。例では、基板支持アセンブリが、処理領域をもつ上面を有するセラミック上部プレートを含む。１つまたは複数の電極が、セラミック上部プレート内にある。複数のメサが、処理領域内に、およびセラミックプレートの上面上に、または１つまたは複数の電極のうちの１つのエッジの垂直方向上方にある。【選択図】図２Ａ

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Inventors:
Parke, Vijay D.
Agarwal, Ashutosh
Application Number:
JP2023563200A
Publication Date:
April 10, 2024
Filing Date:
April 05, 2022
Export Citation:
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Assignee:
APPLIED MATERIALS,INCORPORATED
International Classes:
H01L21/683; C23C16/44; H01L21/3065
Attorney, Agent or Firm:
Sonoda & Kobayashi Patent Attorneys Corporation



 
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