露光装置 - Bearc Co., Ltd.

Title:

露光装置

Document Type and Number:

Japanese Patent JP6729954

Kind Code:

B1

Abstract:

【課題】フォトマスクのコストを低減し、かつ、マスクパターンを大判サイズの基板に高精度に転写することが可能な露光装置提供すること。【解決手段】露光装置１は、露光対象領域１４を第１露光対象領域１４Ａと第２露光対象領域１４Ｂとに分割し、第１露光対象領域１４Ａに対応する第１フォトマスク１１Ａ及び第２露光対象領域１４Ｂに対応する第２フォトマスク１１Ｂによってマスクパターン１７Ａ，１７Ｂを基板１０に転写する。露光装置１は、直列に連結される第１ステージ２５と第２ステージ２６とを有し、基板１０とフォトマスク１１Ａ，１１Ｂそれぞれの間の相対的な位置を合せるアライメント機構２８及び光源４５から出射される光を露光光５０として第１フォトマスク１１Ａと第２フォトマスク１１Ｂとに切り替えて照射する露光光照射機構３０Ａ，３０Ｂを有している。【選択図】図７

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Inventors:

Kazuhiko Kawato
Shinichi Hanyu

Application Number:

JP2019190627A

Publication Date:

July 29, 2020

Filing Date:

October 18, 2019

Export Citation:

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