Title:
外部反射戻り光耐性レーザ
Document Type and Number:
Japanese Patent JP2022506323
Kind Code:
A
Abstract:
外部反射戻り光耐性レーザ（３００）が提供される。反射戻り光制御部ＯＦＣ（３１０）の高反射面（３８０）と分布帰還型レーザ（３２０）の回折格子層（３２２）との間に安定した縦モードの光の電磁場分布が形成される。分離電極構成が用いられることで、直流電源からＯＦＣ（３１０）に電流を入力する強さを調節することによってＯＦＣ（３１０）領域の実効屈折率が変更される。このようにして、外部反射戻り光によって引き起こされるレーザ（３００）のキャビティ内位相変動が補償され、外部反射戻り光耐性が改善される。外部反射戻り光耐性レーザにより、アイソレータを用いない光源実装を実施して、実装サイズを削減してコンポネントサイズを削減し、大容量及び小型化のための高密度実装の要求を満たし、光源のマルチチャンネル集積化を実施することができる。これに加えて、プロセスの複雑さが緩和される。
Inventors:
沈 ▲紅▼明
▲許▼ 奔波
Song Fawn
▲許▼ 奔波
Song Fawn
Application Number:
JP2021523632A
Publication Date:
January 17, 2022
Filing Date:
November 05, 2018
Export Citation:
Assignee:
HUAWEI TECHNOLOGIES CO.,LTD.
International Classes:
G02F1/025; H01S5/026; H01S5/12
Domestic Patent References:
| JP2014165392A | 2014-09-08 | |||
| JPH1187853A | 1999-03-30 | |||
| JPS6134988A | 1986-02-19 | |||
| JP2014165223A | 2014-09-08 | |||
| JPS6232680A | 1987-02-12 | |||
| JPH03147386A | 1991-06-24 | |||
| JPS6170779A | 1986-04-11 | |||
| JP2014154835A | 2014-08-25 | |||
| JPS61161786A | 1986-07-22 | |||
| JPS60187078A | 1985-09-24 | |||
| JPS5961086A | 1984-04-07 | |||
| JP2006173563A | 2006-06-29 | |||
| JPH11195844A | 1999-07-21 | |||
| JPH11195843A | 1999-07-21 | |||
| JPH07106699A | 1995-04-21 | |||
| JPS6424483A | 1989-01-26 | |||
| JPS6362388A | 1988-03-18 | |||
| JPS62245692A | 1987-10-26 |
Foreign References:
| CN108649427A | 2018-10-12 | |||
| US20170244221A1 | 2017-08-24 | |||
| CN1366367A | 2002-08-28 |
Attorney, Agent or Firm:
Shinya Mihiro
Susumu Nomura
Susumu Nomura
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