Title:
遠赤外線乾燥装置
Document Type and Number:
Japanese Patent JP3220002
Kind Code:
U
Abstract:
【課題】遠赤外線ヒータ、ユニットヒータを備えた給気ユニットと排気ユニットにより乾燥室内の温度と湿度を制御して、高品質の乾燥物を短時間で生産する遠赤外線乾燥装置を提供する。【解決手段】遠赤外線乾燥装置１は、乾燥させる乾燥物を収納する乾燥室２と、乾燥物を加熱する遠赤外線ヒータ１０と、乾燥室２内の空気を循環する循環ユニット１２と、乾燥室２内に外気を給気する給気ユニット８と、乾燥室２の外に水蒸気と共に乾燥室２内の空気を排気する排気ユニット９と、温度湿度センサ１６と、制御装置１４と、から構成され、給気ユニット８は、乾燥室２に導入する外気を加熱するユニットヒータを備え、制御装置１４が、遠赤外線ヒータ１０、給気ユニット８及び排気ユニット９を制御する。【選択図】図１
Inventors:
Endo Kisaburo
Application Number:
JP2018004550U
Publication Date:
February 07, 2019
Filing Date:
November 23, 2018
Export Citation:
Assignee:
Hokuetsu Denken Co., Ltd.
International Classes:
F26B9/00; F26B3/04; F26B3/30
Attorney, Agent or Firm:
Sachiko Hyakutake