Title:
流体処理装置
Document Type and Number:
Japanese Patent JPWO2014178388
Kind Code:
A1
Abstract:
被処理流動体の処理特性を飛躍的に改善することができる流体処理装置を提供することを課題とする。接近・離反可能な、相対的に回転する処理用面１、２を備え、被処理流動体を、処理用面１、２間の処理領域に内側から外側に向けて通過せさて薄膜流体とし、前記薄膜流体となった被処理流動体の処理を行なう。回転の中心から中間導入部ｄ２までの距離（Ｃｄ）に対する、回転の中心から外周端までの距離（Ｏｄ）の割合（Ｏｄ／Ｃｄ）を、１．２５以上とする。
Inventors:
Shinichi Enomura
Application Number:
JP2015514855A
Publication Date:
February 23, 2017
Filing Date:
April 28, 2014
Export Citation:
Assignee:
M Technique Co., Ltd.
International Classes:
B01J19/18; B01F3/08; B01F3/12; B01F13/00; B01F15/00; B01F15/02; B01J13/00; B01J19/00; B02C7/08; B02C7/11; B02C7/12
Attorney, Agent or Firm:
Takenobu Samejima