Title:
フリーラジカル発生器およびその使用方法
Document Type and Number:
Japanese Patent JP2020532416
Kind Code:
A
Abstract:
ＯＨ＊ラジカルおよびオゾンを配備する、有機および無機汚染物質のための高度な酸化方法に使用するのに適した装置が開示される。場合により、ＯＨ＊ラジカルを提供する第１の放電装置と、オゾンを提供する第２の放電装置とを組み合わせて、望ましい化学的および殺生物特性を提供する。さらに、ラジカルを標的流体に移動させるための効率的な混合システムが開示される。
Inventors:
Pravance S. Mohanti
Vignes Waran Appia
Tejasvi Cunduri
Volodymyr Gorota
Radi Ugapathy
Vignes Waran Appia
Tejasvi Cunduri
Volodymyr Gorota
Radi Ugapathy
Application Number:
JP2020512504A
Publication Date:
November 12, 2020
Filing Date:
September 04, 2018
Export Citation:
Assignee:
Somnio Global Holdings, LRC
International Classes:
B01J19/08; B01D53/26; B01F23/10; B01F23/70; B01F25/64; B01F27/91; C01B13/11; C02F1/50; C02F1/68
Domestic Patent References:
| JPH09285795A | 1997-11-04 | |||
| JPH07289621A | 1995-11-07 | |||
| JPH10139404A | 1998-05-26 | |||
| JP2013086072A | 2013-05-13 | |||
| JP2005118642A | 2005-05-12 |
Attorney, Agent or Firm:
Einzel Felix-Reinhard
Morita Taku
Junichi Maekawa
Hiroyasu Ninomiya
Ueshima
Morita Taku
Junichi Maekawa
Hiroyasu Ninomiya
Ueshima