Title:
ガス処理装置及び真空ライン
Document Type and Number:
Japanese Patent JP2023532774
Kind Code:
A
Abstract:
【課題】可燃性及び／又は爆発性ガスを搬送する、ポンプ装置及び真空ラインの安全性を高める。【解決手段】少なくとも１つの粗引きポンプ装置（１０）によってポンプ搬送されたガスを大気圧で処理するように構成されたガス処理装置（６）であって、前記ガス処理装置（６）は、ガス処理室（２６）と、少なくとも１つの粗引きポンプ装置（１０）の吐出口（８）をガス処理室（２６）の入口（９）に接続するように構成された少なくとも１つの排気管（７）とを備え、前記ガス処理装置（６）は、前記少なくとも１つの排気管（７）内の圧力を下げるように構成された少なくとも１つの補助ポンプ装置（１３）をさらに含み、前記補助ポンプ装置は、前記ガス処理室（２６）の入口（９）から、１ｍ未満、例えば５０cｍ未満に位置している。【選択図】図１
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Inventors:
Emmanuel Beaujon
Application Number:
JP2023501031A
Publication Date:
July 31, 2023
Filing Date:
June 23, 2021
Export Citation:
Assignee:
Pfeiffer Bakyum
International Classes:
H01L21/31; B01D53/46; B01D53/72; B01D53/78; B01D53/81; F04B41/06
Attorney, Agent or Firm:
Patent Attorney Corporation Sanei International Patent Office