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Title:
ゲートバルブ及び基板処理装置並びに基板処理方法
Document Type and Number:
Japanese Patent JP2024033169
Kind Code:
A
Abstract:
【課題】真空処理室及び真空予備室の気密性および清浄度を向上することができるゲートバルブ及び基板処理装置並びに基板処理方法を提供すること。【解決手段】ゲートバルブ30は、真空処理室10及び真空予備室20の互いに対向配置した基板搬出入口24aの全周を取り囲む環状のシール部材25a、25bに対して真空処理室10及び真空予備室20のそれぞれに対向する側の面を当接して真空処理室10と真空予備室20の間を開閉自在に接続し、真空処理室10又は真空予備室20の少なくとも一方の基板搬出入口24aの全周を内外2重で取り囲むように設けたシール部材25a、25bの間及びゲートバルブ30内部の1以上の部位に内外2重にして設けた他のシール部材40a、40bの間にシール用流路51、54を設け、複数のシール用流路を含んで流入口50aから流出口50nまで連続して流れるように不活性ガスを誘導するガス流通用流路50を備えた。【選択図】図4

Inventors:
Yoshifumi Hoshino
Kaito Suzuki
Yukio Oizumi
Application Number:
JP2022136598A
Publication Date:
March 13, 2024
Filing Date:
August 30, 2022
Export Citation:
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Assignee:
株式会社キッツエスシーティー
International Classes:
F16K27/00; C23C16/44; F16K51/02; H01L21/3065
Attorney, Agent or Firm:
Tetsuo Kobayashi