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Title:
酸化グラフェン製造システムおよび酸化グラフェン製造方法
Document Type and Number:
Japanese Patent JP7287700
Kind Code:
B1
Abstract:
【課題】 設備コストを抑えつつ高品質な酸化グラフェンを製造することが可能な酸化グラフェン製造システムおよび酸化グラフェン製造方法を提供する。【解決手段】 酸化グラフェン製造システム10は、遠心分離装置16および回転ろ過装置18を備える。遠心分離装置16は、グラファイトを酸化することによって得られた酸化グラファイトの分散液に対して遠心分離処理を行うことによって、酸化グラファイトから酸を除去する脱酸処理を施すように構成される。回転ろ過装置18は、脱酸処理が施された酸化グラファイトの分散液に対してろ過処理を行う。回転ろ過装置18は、ろ過フィルタ182に補足された酸化グラファイトを含むケーキ層186の堆積厚みを調整するための力をケーキ層186に加えるように構成された層厚調整ブレード184を備える。【選択図】図1

Inventors:
Atsushi Hayashi
Takao Miyazawa
Kiyonaga Tsukasa
Application Number:
JP2021192178A
Publication Date:
June 06, 2023
Filing Date:
November 26, 2021
Export Citation:
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Assignee:
Nsc corporation
International Classes:
C01B32/198; C01B32/23
Domestic Patent References:
JP2015020920A
JP11128618A
JP10033913A
JP2004160318A
Foreign References:
US20210293755
CN107778514A
CN106853965A