Title:
マイクロ波加熱照射装置
Document Type and Number:
Japanese Patent JPWO2016017217
Kind Code:
A1
Abstract:
開口部を有し、開口部からマイクロ波が照射されることで内部に収められた試料を加熱させる反応炉（１）と、反応炉（１）の外側に配置され、マイクロ波を照射する１つのマイクロ波放射源（３）と、反応炉（１）の上方に配置され、マイクロ波放射源（３）により照射されたマイクロ波を、反応炉（１）の開口部に反射する回転二次曲面鏡（４）と、反応炉（１）の開口部に設けられ、少なくとも回転二次曲面鏡（４）で反射されたマイクロ波の照射箇所を誘電体で形成し、当該マイクロ波を反応炉の内部に透過させる蓋（誘電体板（２））とを備え、蓋の誘電体で形成されたマイクロ波の照射箇所において、回転二次曲面鏡（４）で反射されたマイクロ波の偏波が透過する入射角になるように、マイクロ波放射源（３）と回転二次曲面鏡（４）が配置された。
Inventors:
Tomoyuki Koyanagi
Takigawa Michio
Yoshio Inazawa
Takuro Sasaki
Yukihiro Homma
Takigawa Michio
Yoshio Inazawa
Takuro Sasaki
Yukihiro Homma
Application Number:
JP2015553953A
Publication Date:
April 27, 2017
Filing Date:
April 16, 2015
Export Citation:
Assignee:
Mitsubishi Electric Corporation
International Classes:
H05B6/64; F27D11/12; H05B6/72; H05B6/80
Domestic Patent References:
| JP2006260915A | 2006-09-28 | |||
| JPH07310887A | 1995-11-28 | |||
| JPS56119265A | 1981-09-18 | |||
| JPS47024640A | ||||
| JP2002195541A | 2002-07-10 | |||
| JP2006153845A | 2006-06-15 | |||
| JP2000223260A | 2000-08-11 | |||
| JP2006501122A | 2006-01-12 | |||
| JP2007005347A | 2007-01-11 | |||
| JP2003100638A | 2003-04-04 |
Foreign References:
| WO2014054276A1 | 2014-04-10 | |||
| WO1994026408A1 | 1994-11-24 | |||
| US5262743A | 1993-11-16 |
Attorney, Agent or Firm:
Hideaki Tazawa
Hamada Hatsune
Nakashima Shigeru
Hideo Kawamura
Tatsuya Sakamoto
Tsujioka Masaaki
Hamada Hatsune
Nakashima Shigeru
Hideo Kawamura
Tatsuya Sakamoto
Tsujioka Masaaki