Title:
積層体、組成物、及び、積層体形成用キット
Document Type and Number:
Japanese Patent JPWO2020195995
Kind Code:
A1
Abstract:
基材、有機層、保護層及び感光層をこの順に含み、上記保護層が樹脂を含み、上記樹脂が分岐部と上記分岐部に結合した分子鎖を有し、上記分子鎖が式（１−１）〜式（５−１）のいずれかで表わされる繰返し単位のうち、少なくとも１種の繰り返し単位を有し、上記感光層は現像液を用いた現像に供せられ、上記保護層は剥離液を用いた除去に供せられる、積層体、上記積層体に含まれる保護層又は感光層の形成に用いられる組成物、及び、上記積層体の形成に用いられる積層体形成用キット；式中、Ｒ１１は水素原子又はメチル基を表し、Ｒ２１は水素原子又はメチル基を表し、Ｒ３１〜Ｒ３３はそれぞれ独立に、置換基又は水素原子を表し、Ｒ４１〜Ｒ４９はそれぞれ独立に、置換基又は水素原子を表し、Ｒ５１〜Ｒ５４はそれぞれ独立に、水素原子又は置換基を表す。
Inventors:
Atsushi Nakamura
Application Number:
JP2021509071A
Publication Date:
December 23, 2021
Filing Date:
March 16, 2020
Export Citation:
Assignee:
FUJIFILM Corporation
International Classes:
G03F7/11; C08F251/00; C08F261/04
Domestic Patent References:
| JP2015194674A | 2015-11-05 |
Foreign References:
| WO2016175220A1 | 2016-11-03 |
Attorney, Agent or Firm:
Patent Service Corporation Patent Office Sykes