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Title:
磁気ディスク用潤滑剤及びその製造方法、並びに、磁気ディスク及びその製造方法
Document Type and Number:
Japanese Patent JPWO2005068589
Kind Code:
A1
Abstract:
１０nm以下の極低浮上量においてもフライスティクション障害や腐食障害などが防止でき、５４００ｒｐｍ以上の高速回転においても、マイグレーションを抑制し得る付着性の高い潤滑層を形成でき、特にロードアンロード方式用に好適な潤滑層を形成するための潤滑剤及び磁気ディスクを提供する。パーフルオロポリエーテルを少なくとも含む潤滑剤を脱気処理した後、精製処理する、または、パーフルオロポリエーテルを少なくとも含む液体状の潤滑剤を気化させ、気化したパーフルオロポリエーテル分子を、その平均自由行程以内の距離で液化させることにより、前記潤滑剤を精製処理する。得られた潤滑剤を、基板上に炭素系保護層まで形成した磁気ディスクの保護層上に成膜することにより潤滑層を形成し、磁気ディスクを得る。磁気ディスク用潤滑剤は、パーフルオロポリエーテルを含み、分子量分散度が１．３以下である。

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Inventors:
Koichi Shimokawa
Application Number:
JP2005517030A
Publication Date:
December 27, 2007
Filing Date:
January 12, 2005
Export Citation:
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Assignee:
HOYA CORPORATION
International Classes:
C10M169/04; C10M107/38; C10M177/00; G11B5/725; G11B5/84
Domestic Patent References:
JPS5216561A1977-02-07
JP2001229524A2001-08-24
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JP2001152176A2001-06-05
JP2004319058A2004-11-11
Attorney, Agent or Firm:
Takeshi Otsuka



 
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