Title:
磁気ディスク基板の研磨方法、及び磁気ディスク基板用研磨剤組成物
Document Type and Number:
Japanese Patent JP2024049316
Kind Code:
A
Abstract:
【課題】粗研磨工程後の基板表面上の残留物を低減し、表面欠陥やスクラッチの低減を実現できる磁気ディスク基板の研磨方法の提供を課題とする。【解決手段】磁気ディスク基板の研磨方法は、（１）研磨剤組成物Ａを研磨機に供給して、前段の研磨を行う工程、（２）工程（１）で得られた磁気ディスク基板をリンス処理する工程、（３）平均粒子径（Ｄ５０）が２００～６００ｎｍである湿式法シリカと、平均粒子径（Ｄ５０）が１０～１００ｎｍでありＨｅｙｗｏｏｄ径で測定された体積基準の粒度分布における粒子径５０ｎｍの累積体積頻度が３５％以上かつ粒度分布における粒子径１５ｎｍの累積体積頻度が９０％以下であるコロイダルシリカと、水とを含有し、湿式法シリカとコロイダルシリカの割合が質量比で５：９５～９５：５である研磨剤組成物Ｂを研磨機に供給して、後段の研磨を行う工程を有し、各工程（１）～（３）を同一研磨機で行う。【選択図】なし
Inventors:
Junichiro Ando
Application Number:
JP2023101649A
Publication Date:
April 09, 2024
Filing Date:
June 21, 2023
Export Citation:
Assignee:
Yamaguchi Seiken Industry Co., Ltd.
International Classes:
G11B5/84; B24B37/00; C09K3/14
Attorney, Agent or Firm:
Ippei Watanabe
Sei Koike
Yoshio Nagaoka
Satoshi Asakura
Sei Koike
Yoshio Nagaoka
Satoshi Asakura
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